完全自動産業用WLI-AFMシステム
Park NX-Hybrid WLIは、半導体デバイスの研究開発/生産現場における計測、品質保証、前工程のプロセスコントロール、後工程の高度なパッケージ管理などのための白色光干渉計を内蔵した世界初のAFMシステムです。サブナノの分解能と超高精度でナノスケールの領域までズームインでき、非常に広い範囲でのハイスループット計測が可能です。
半導体計測に最適な2つの技術を融合
- 白色干渉計（WLI）：白色光干渉法は、広範囲を高速で測定できる光学技術であり、かつてないハイスループットの測定が可能です。
- 原子間力顕微鏡（AFM）：原子間力顕微鏡は、走査型プローブ技術であり、透明な材料であってもナノスケールの最高の分解能で測定することができます。
| 測定範囲 | 速度 | 横方向分解能 | 縦方向分解能 | 精度 | |
|---|---|---|---|---|---|
| WLI | 広範囲 | 速い | 低い | 高い | 低い |
| AFM | 局所的 | 遅い | 高い | 非常に高い | 高い |
| WLI | AFM | |
|---|---|---|
| 測定範囲 | 広範囲 | 局所的 |
| 速度 | 速い | 遅い |
| 横方向分解能 | 低い | 高い |
| 縦方向分解能 | 高い | 非常に高い |
| 精度 | 低い | 高い |
WLIとAFMを組み合わせることで、視野、分解能、速度における性能が大幅に向上します。
従来のWLIの能力をはるかに超える高分解能・高精度を必要とするWLIアプリケーション
- 高度なCMP計測・モニタリング
- パッケージングの高度化
- ダイレチクル上のホットスポットおよび欠陥検出
- ウェーハレベルの計測
より広い計測範囲と高いスループットを必要とするAFMアプリケーション
- インライン・ウェーハ計測
- CMP特性評価用ロングレンジ・プロファイリング
- サブオングストローム表面粗さ制御
- ウェーハの検査および解析
NX-Hybrid WLIの特徴
Park WLIシステム
- WLIモードとPSIモードに対応（PSIモードは電動フィルター・チェンジャーに対応）
- 使用可能な対物レンズ倍率：2.5X、10X、20X、50X、100X
- 電動リニアレンズチェンジャーにより、2つの対物レンズを自動切り替え可能
WLI光学干渉計
- ミラウ対物レンズの高さをスキャンしながら干渉による光量変化から、各ピクセルにおけるサンプル表面の高さを算出することができます。
- 白色光干渉計（WLI）と位相シフト干渉計（PSI）は、表面特性解析においてよく使われる技術です。
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